概要:苏州纳维创办以来,在江苏省重大成果转化项目、苏州市各级人才项目支持下,经过10年攻关完成了从材料生长设备的自主研发到GaN单晶衬底生长制备的完整工艺开发,达到世界先进水平,期间相继得到科技部863项目和国家发改委产业化示范项目的支持;
企业信息:
企业名称:苏州纳维科技有限公司
统一社会信用代码:913205946617787769
注册资本:5,679.2887万(元)
成立日期:2007-05-25
所属省市:江苏省苏州市
主营:公司产品为产品有GaN单晶衬底,有2英寸、4英寸和6英寸GaN单晶衬底;
产品关键词:4英寸自支撑氮化镓晶片(非掺),4英寸自支撑氮化镓晶片(铁掺),2英寸自支撑氮化镓晶片(非掺),2英寸自支撑氮化镓晶片(硅掺),2英寸自支撑氮化镓晶片(铁掺),10*10.5mm²自支撑氮化镓晶片(非掺),10*10.5mm²自支撑氮化镓晶片(硅掺),10*10.5mm²自支撑氮化镓晶片(铁掺),5*10mm²半极性氮化镓自支撑衬底Semi-palar-(20-2-1)plane(UID/N/SI),6英寸氮化镓厚膜晶片(非掺),6英寸氮化镓厚膜晶片(硅掺),6英寸氮化镓厚膜晶片(镁掺),4英寸氮化镓厚膜晶片(非掺),4英寸氮化镓厚膜晶片(硅掺),4英寸氮化镓厚膜晶片(镁掺),2英寸氮化镓厚膜晶片(非掺),2英寸氮化镓厚膜晶片(硅掺),2英寸氮化镓厚膜晶片(镁掺);
产品成分关键词:氮化镓
注:以下内容信息来源:http://www.nanowin.com.cn/
公司介绍:
苏州纳维创办以来,在江苏省重大成果转化项目、苏州市各级人才项目支持下,经过10年攻关完成了从材料生长设备的自主研发到GaN单晶衬底生长制备的完整工艺开发,2英寸GaN单晶衬底的位错密度降低到10⁴cm²,达到世界先进水平,期间相继得到科技部863项目和国家发改委产业化示范项目的支持;近两年完成了4英寸和6英寸GaN单晶衬底的关键技术研发。目前GaN单晶衬底产品已经提供给500余家客户使用,基本完成了对研发市场的占领,正在提升产能向企业应用市场发展,重点突破方向是蓝绿光半导体激光器、高功率电力电子器件、高可靠性高功率微波器件等重大领域。申报相关核心专利近百余项,在各类重要国际学术会议和产业论坛上做邀请报告百余次,苏州纳维受到产业界和国际同行的广泛关注。
产品图谱:
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